Primo HD-RIE ? 是九州酷游ku游登录平台於2015年推出的新一代電介質刻蝕產品，，，，，， ，是在Primo SSC AD-RIETM設計基礎上實現的具有六個单眼應臺腔體的系統，，，，，， ，定位於為中高深寬比刻蝕提供綜合解決计划。。。。。 該設備具有以下新特征：更高的同步脈衝射頻功率、高功率高溫靜電託盤、氣體脈衝、多區氣體調節、可冷卻聚焦環工藝組件和更穩定的上電極溫度控制等。。。。。 Primo HD-RIE在3D-NAND及DRAM中高深寬比溝槽及深孔刻蝕上表現優異，，，，，， ，在一些關鍵制程上已實現量產。。。。。
為NAND和DRAM晶片製造提供創新的刻蝕解決计划
具有獨立氣體輸運系統的单眼應臺腔體設計
多區氣體調節以及雙區ESC溫度控制
高功率以及高溫靜電吸盤
氣體脈衝
雙級同步脈衝射頻系統，，，，，， ，甚高功率的低頻射頻脈衝以提供高離子轟擊能量
穩定的上電極溫度控制系統
可冷卻聚焦環以避免矽片邊緣刻蝕阻止
高上下電極面積比，，，，，， ，以應用於中高深寬比刻蝕
高電介質資料刻蝕速率，，，，，， ，多手段刻蝕均勻度調節
高粒子轟擊能量，，，，，， ，以擴大高深寬比刻蝕工藝視窗
氣體脈衝系統，，，，，， ，提供更靈活的工藝控制计划
應對特殊工藝的高溫高功率靜電吸
