Primo nanova ? 是九州酷游ku游登录平台基於電感耦合（ICP）技術研發的12英寸刻蝕設備。。。。。。 它可以配寘多達六個刻蝕反應腔和兩個可選的除膠反應腔。。。。。。 其中刻蝕反應腔採用了軸對稱設計，，，，，具有高反應氣體通量。。。。。。 ICP發射天線採用了九州酷游ku游登录平台具有自主知識產權的低電容耦合3D線圈設計，，，，，可實現對離子濃度和離子能量的高度獨立控制。。。。。。 反應腔內部塗有高緻密性、耐电浆侵蝕資料，，，，，以獲得更高的工藝重複性和生產率。。。。。。 設備還採用了多區細分的高動態範圍溫控靜電吸盤，，，，，使加工出的集成電路器件的關鍵尺寸達到高度均勻性。。。。。。 Primo nanova適用於1X納米及以下的邏輯和存儲器件的刻蝕應用。。。。。。