Primo HD-RIE?是九州酷游ku游登录平台于2015年推出的新一代电介质刻蚀产品，，，，，，，，是在Primo SSC AD-RIETM设计基础上实现的具有六个单反应台腔体的系统，，，，，，，，定位于为中高深宽比刻蚀提供综合解决计划。。。。。该装备具有以下新特征：更高的同步脉冲射频功率、高功率高温静电托盘、气体脉冲、多区气体调理、可冷却聚焦环工艺组件和更稳固的上电极温度控制等。。。。。Primo HD-RIE在3D-NAND及DRAM中高深宽比沟槽及深孔刻蚀上体现优异，，，，，，，，在一些要害制程上已实现量产。。。。。
为NAND和DRAM芯片制造提供立异的刻蚀解决计划
具有自力气体输运系统的单反应台腔体设计
多区气体调理以及双区ESC温度控制
高功率以及高温静电吸盘
气体脉冲
双级同步脉冲射频系统，，，，，，，，甚高功率的低频射频脉冲以提供高离子轰击能量
稳固的上电极温度控制系统
可冷却聚焦环以避免硅片边沿刻蚀阻止
高上下电极面积比，，，，，，，，以应用于中高深宽比刻蚀
高电介质质料刻蚀速率，，，，，，，，多手段刻蚀匀称度调理
高粒子轰击能量，，，，，，，，以扩大高深宽比刻蚀工艺窗口
气体脉冲系统，，，，，，，，提供更无邪的工艺控制计划
应对特殊工艺的高温高功率静电吸盘选项
